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      濺射靶材

      • 鉭鈀
      鉭鈀

      鉭鈀

      • 材質:Ta1、Ta2
      • 標準:GB/3629-2006
      • 狀態:退火態(M)或硬態(Y)
      • 產品描述:為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。
      • 在線咨詢

      靶材應用:

      濺射靶材主要應用于電子及信息產業,如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。

      眾昌金屬可為用戶專業生產加工各種規格濺射靶材,純度高、均勻致密,具有優良導熱性,從而保證靶材的高效率和高利用率。

      靶材分類:

      根據形狀可分為:方靶、圓靶、異型靶

      靶材的主要性能要求

      純度

      純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業的迅速發展,硅片尺寸由6”、8“發展到12”,而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

      雜質含量

      靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如,半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。


      我公司鎢鉬制品具有熔點高、強度大、壽命長、耐高溫性能好等特點,廣泛應用于熱場、真空鍍膜、太陽能、藍寶石晶體、光電子、半導體、特種陶瓷、光源照明、機械部件、玻璃制造、玻璃纖維,耐火纖維,稀土冶金、工業窯爐等諸多領域。

      玻璃纖維爐用加熱電極材料鉬板電極, 鉬螺栓, 鉬彎條;

      硅酸鋁纖維爐、玻璃電熔窯爐用加熱電極材料鎢合金棒電極, 鉬棒電極, 鉬流口, 鎢板, 鉬板, 鎢捅針, 鉬捅針;

      CTX射線管和旋轉陽極X射線管鉬基鎢靶;

      稀土冶金行業鎢棒, 鎢坩堝, 鉬坩堝;

      中、高壓開關管電觸頭材料銅鎢合金, 碳化鎢銅;

      真空爐、藍寶石晶體生長爐加熱室鎢坩堝, 鉬坩堝, 鎢隔熱屏, 鉬隔熱屏, 鎢零件, 鉬零件;

      鈦、鋯及其合金材料鈦板, 鈦棒, 鈦管, 鈦絲, 鋯板, 鋯棒, 鋯管, 鋯絲等鈦鋯金屬材料;

      鈦、鋯金屬制品鈦設備, 鈦鍛件、鑄件, 鋯設備, 鋯鍛件、鑄件;

      公司以“優質的產品質量、優秀的經營服務”為宗旨,熱誠歡迎新老客戶洽談合作,共同發展。

      咨詢電話:0917-3210458,13571195021(呂經理)

      上一個:鈮靶 下一個:鋯靶
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