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      產品應用

      濺射技術概念:

      濺射技術是制備薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產生的離子,在真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。


      濺射靶材應用:

      濺射靶材主要應用于電子及信息產業,如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。西安格美金屬材料有限公司鎢靶材和鉬靶材廣泛應用于光伏、TFT-LCD等現代工業。

      濺射靶材對純度有較高的要求,一般鎢鉬濺射靶材要求純度達到99.95%以上,并且具有良好的密度和耐腐蝕性能。


      產品材料:

      鎢靶材、鉬靶材、鎢鉬合金靶材、以及鉬鈮合金

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